植物冠層分析儀用于農作物成長中，起到重要的效果，就拿西瓜來說，西瓜的成長對于光照的需求是非常大的，喜陽，但是大棚種植中運用的棚膜外表結露珠或外表不潔凈，常脫射人棚內的光照強度下降，特別是在多層覆蓋情況下。因而，應留意保持棚膜潔凈，不要用透光很差的舊薄膜。大棚內光照首要來源于頂部（上光）和旁邊面（側光），地上薄膜在成長前期也有一定反光作。在支架密植培育情況下，距地上1米以上的葉面積的正常光合效果，對西瓜產量影響很大。因而，在西瓜成長期應始終保持棚頂部和兩旁邊面光線四通八達地進入大棚內部，使棚內1米以上葉片在成長中后期也能獲得滿足的光照，一切，要嚴厲整枝、及時打權和打頂，使架頂葉片距棚頂薄膜有30—40厘米的間隔、避免行間、頂部和旁邊面郁閉。在綁蔓時，要留意使葉片層間有20—30厘米的距離，避免彼此重疊。
在運用植物冠層分析儀研討西瓜成長之前，咱們要了解西瓜的成長狀態，西瓜作為葫蘆科作物，其莖蔓上著生卷須，多為攀緣成長，但西瓜的莖蔓一般爬行于地上成長，僅在成長前期呈直立狀。西瓜蔓的橫斷面近圓形有棱角，維管束有10束呈雙環交錯擺放，構成植株的輸導安排。西瓜莖蔓上著生葉片處稱為節，在葉腋處著生苞片、雄花、雌花、卷須和根的原始體，當莖蔓上的根原始體觸摸土面時能分生構成不定根，其構造和功用都類似于胚根。西瓜莖蔓的主蔓長度通常為2～4m，受種類特性和培育條件影響較大。早熟種類或肥水條件差時主蔓僅2m左右，成長勢強的中晚熟種類在肥水供應足夠時主蔓可長達5m以上。側蔓長度一般稍短于主蔓，莖蔓的效果首要是支撐葉片合理分布，銜接根、葉、果起水分和營養的輸導效果，儲藏葉片制作的部分營養物質，經過表皮綠色安排合成部分光合產物供應自身需要。西瓜莖蔓還有很強的分枝能力。因種類、長勢不同能構成3～5級側蔓。
西瓜的下胚軸長度為3—10cm，銜接子葉節和根莖。下胚軸在麥苗頂土前開端伸長，直至麥苗初片真葉打開中止成長。此后胚芽成長并構成主蔓，初期為直立成長，速度較慢，當第5～6片真葉打開后，主蔓成長加速，節間逐步伸長。主蔓達一定長度后因莖的木質化安排不發達，開端爬行于地上成長。開花前后的主蔓成長速度*陜，一晝夜可達4～8cm，當主蔓伸長速度超越每晝夜8cm時，有可能出現徒長，需留意控制。成果后因植株成長中心搬運，莖蔓成長勢削弱，側枝產生削減。果實成熟后，莖蔓成長重新康復，在基部不定芽和長勢較強的側枝上可重新萌發新蔓，條件適合時可用于培育新蔓二次成果。
因而，利用冠層剖析對西瓜進行研討種植，不僅可以削減種植者的擔負，還能實現西瓜的***、高產量，可以說儀器是農作物成長中不可或缺的。選擇合適的植物冠層分析儀廠家，選擇云唐科技。
